MOSFET（金属酸化膜半導体電解効果トランジスタ）の復習。
シリコン基板に、ソース.ドレインに不純物イオン注入と、酸化膜とゲート金属形成する構造図が、懐かしい。
そんな頃（1970年代）、EPROM（不揮発性メモリ）、EEPROM（紫外線消去型EPROM）や浮遊ゲートMOSFETと、次々に新技術が登場。1980年代後半、消去方式が改良されて、「フラッシュメモリ」に生まれ変わった。その後、デジカメ〜スマホに応用されて現在に続く。
基礎理論を学び、技術の進歩を実感できた世代…多くの知恵の結晶…に感謝する。
